潤(rùn)濕性是材料表面的重要特征之一。通常將接觸角小于90°的表面稱為親水表面(hydrophilic surface)，大于90°的表面為疏水表面(hydrophobic surface)，而超疏水指表面上水的表觀接觸角超過(guò)150°的一種特殊表面現(xiàn)象。影響材料表面潤(rùn)濕性的主要因素有：材料表面能、表面粗糙度以及表面微納結(jié)構(gòu)，其中低表面能材料是制備超疏水性的基本條件，表面粗糙度和表面微細(xì)結(jié)構(gòu)是決定性因素。理論研究和實(shí)驗(yàn)證明，接觸角隨著表面能的降低而增加，隨著表面粗糙度的增加而增大，而表面微/納結(jié)構(gòu)對(duì)潤(rùn)濕性具有重要的影響。常用的表面粗糙化和微/納結(jié)構(gòu)的制備方法有模板法、化學(xué)氣相沉積、溶膠-凝膠法、微細(xì)加工、粒子填充等方法。

 

　　二.表面潤(rùn)濕性對(duì)能源器件性能的影響

 

　　1.電子器件的電導(dǎo)率

 

　　電子器件的電極材料或者表面材料的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)對(duì)器件的性能起著決定性的作用，比如，電極表面材料中的一維納米結(jié)構(gòu)材料就有著很好的性能，是因?yàn)橐痪S納米結(jié)構(gòu)具有眾多優(yōu)點(diǎn)：高的比表面積，可控的表面電荷、潤(rùn)濕性等。

 

　　武漢光電國(guó)家實(shí)驗(yàn)室納米能源技術(shù)與功能納米器件團(tuán)隊(duì)的沈國(guó)震教授領(lǐng)導(dǎo)的課題組與美國(guó)喬治亞理工材料科學(xué)與工程學(xué)院王中林教授的小組 ，首次合成了直徑低于4nm的氧化銦超細(xì)納米線，對(duì)其潤(rùn)濕性進(jìn)行了研究，并且利用光刻技術(shù)制作氧化銦超細(xì)納米線的薄膜晶體管器件，器件透明度高達(dá)80%。其通過(guò)改進(jìn)的激光燒蝕輔助氣相沉積法，在鍍金硅片上獲得了層級(jí)結(jié)構(gòu)的單晶氧化銦納米線，該材料具有很好的可逆的潤(rùn)濕性，在波長(zhǎng)為254nm的紫外光照射下10分鐘內(nèi)由高疏水轉(zhuǎn)變?yōu)槌H水，暗處理數(shù)小時(shí)之后又可以恢復(fù)高疏水特性。同時(shí)研究發(fā)現(xiàn)對(duì)于制備的氧化銦層級(jí)結(jié)構(gòu)納米線，直徑越細(xì)其疏水特性越好。氧化銦在可見光波段有很高的透明度，可達(dá)80%，僅比純凈的ITO玻璃透明度低10%，而其導(dǎo)電率比普通氧化銦納米線的電導(dǎo)率高出1-2個(gè)數(shù)量級(jí)。

 

　　2.器件的電化學(xué)性能和離子導(dǎo)電率

 

　　在文獻(xiàn)報(bào)道中，經(jīng)過(guò)研究者們對(duì)電極材料、表面涂覆材料以及隔膜材料等能源器件中材料的研究發(fā)現(xiàn)，材料表面的潤(rùn)濕性會(huì)對(duì)能源器件的電化學(xué)性能起到重要的影響。比如，鋰電池中電極材料和隔膜材料的親水性會(huì)提高材料對(duì)電解液的吸收，提高了離子導(dǎo)電率，從而影響電池的容量和循環(huán)性能;超級(jí)電容器中基底和隔膜的潤(rùn)濕性也會(huì)影響電極材料和基底的結(jié)合力以及超級(jí)電容器中電解質(zhì)離子的傳輸速率，從而影響其倍率性能和循環(huán)性能。

 

　　有研究者通過(guò)使用PDA涂層聚烯烴隔膜組裝出的電池由于表面親水性的綜合影響，增強(qiáng)了鋰離子電池的循環(huán)壽命、倍率性能、提高了電解液的吸收率、抑制了鋰枝晶的生長(zhǎng)。在另一項(xiàng)研究中，也研究出PDA涂層工藝可以提高電解質(zhì)潤(rùn)濕、電解質(zhì)吸收和離子導(dǎo)電性，從而提高倍率性能和動(dòng)力性能。例如，F(xiàn)ang等人用聚乙二醇鏈結(jié)合PDA涂層改性聚丙烯隔膜和電解質(zhì)的吸收增加，降低界面熱阻，提高循環(huán)穩(wěn)定性。Kang等人介紹了一種新穎的仿生方法，通過(guò)使用PDA涂層和的二氧化硅涂層進(jìn)行涂覆，不僅提高了聚烯烴隔膜對(duì)電解液的潤(rùn)濕性，也提高了鋰離子電池的能量密度和安全性。除了PDA，其他材料也用于涂覆聚烯烴微孔隔膜改變其性能。例如，Li等人制備PEO涂覆聚烯烴隔膜。PEO凝膠相改進(jìn)了離子傳導(dǎo)性和電解液保持率。Shi等人通過(guò)使用處理過(guò)的多巴胺和接枝MMA單體制備成一個(gè)PMMA層，再修飾到聚丙烯烴膜上。由此方法生產(chǎn)的隔膜，改善了電解質(zhì)溶液的吸收率和離子的導(dǎo)電性，同時(shí)也提高了倍率和循環(huán)性能。

 

　　三.常見改性手段

 

　　1.離子輻照技術(shù)

 

　　離子輻照技術(shù)是一種重要的材料表面改性和近表面表征技術(shù)，離子源中的離子通過(guò)加速器產(chǎn)生的高壓電場(chǎng)進(jìn)行加速，將帶有一定能量的離子束輻照(轟擊)材料的表面，入射的離子束在與靶材料的相互作用過(guò)程中逐漸消耗能量，最終停留在靴材料中，從而引起靶材料近表面處的結(jié)構(gòu)發(fā)生改變。最初離子輻照技術(shù)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體材料的慘雜，現(xiàn)在已經(jīng)擴(kuò)展其應(yīng)用領(lǐng)域到金屬材料、半導(dǎo)體材料、絕緣材料、非晶和表面物理、醫(yī)學(xué)、化學(xué)、物理和冶金等領(lǐng)域。

 

　　

 

 

 

　　圖1. 離子輻照樣品SEM圖

 

　　2.等離子體處理

 

　　等離子體處理是將材料暴露于非聚合性氣體等離子體中利用等離子體轟擊材料表面，引起高分子材料結(jié)構(gòu)的許多變化而對(duì)高分子材料進(jìn)行表面改性。等離子體中的活性物質(zhì)能與高分子材料表面進(jìn)行各種相互作用，等離子體處理聚合物表面有不同的機(jī)理。目前已報(bào)導(dǎo)的等離子體氣體有 CF、C2F2、CF3H、CF4Cl、CF2Br、NH3、N2、NO、 O2、H2O、 CO2、SO2、H2/N2、CF4/O2、O2/He、Ne 等。等離子體處理時(shí)幾種參數(shù)如操作氣體壓力、電場(chǎng)頻率、功率、作用時(shí)間等易于調(diào)節(jié)，可獲得理想的控制而產(chǎn)生良好的效果。等離子體聚合沉積的聚合膜在結(jié)構(gòu)上與普通聚合膜不同，在性質(zhì)上能賦予新的功能，改善材料多方面的性能，包括表面性能：親水性、疏水性、粘合性、印刷性、染色性、保護(hù)性、濕潤(rùn)性、耐磨性、耐污性等?？刹捎酶鞣N氣體組合，提供豐富的化學(xué)反應(yīng)活性物質(zhì)并具有較高的反應(yīng)活性，所得表面化學(xué)強(qiáng)列依賴于等離子體所用氣體和劑量，可提高材料的表面能，產(chǎn)生更潤(rùn)濕的表面;可保持材料表面長(zhǎng)期的潤(rùn)濕性、穩(wěn)定性，減少表面分子降解和親水退化效應(yīng)。

 

　　

 

 

 

　

 

　　圖3. O2處理樣品SEM圖

 

　　3.電化學(xué)氧化

 

　　陽(yáng)極電解氧化法也叫電化學(xué)氧化法。以碳材料為例，它是以碳纖維作陽(yáng)極而浸在電解質(zhì)中的碳電極充當(dāng)陰極，電解液中含氧陰離子在電場(chǎng)作用下向陽(yáng)極碳纖維移動(dòng),在其表面放電生成新生態(tài)氧繼而使其氧化,生成羥基、羧基、羰基等含氧官能團(tuán)。同時(shí)碳纖維也會(huì)受到一定程度的刻蝕。電解質(zhì)種類不同,氧化刻蝕的歷程也不同。如果電解質(zhì)屬于酸類，由水分子電解生成的氧原子被碳纖維表面的不飽和碳原子吸附，并與相鄰吸附氧原子的碳原子相互作用脫落一個(gè)碳原子而產(chǎn)生CO2，從而使石墨微晶被刻蝕，邊緣與棱角的活性碳原子數(shù)目增加，是表面能增加的一個(gè)重要因素。浸潤(rùn)理論認(rèn)為復(fù)合材料兩相間的結(jié)合模式屬于機(jī)械粘接與潤(rùn)濕吸附。機(jī)械粘接模式是一種機(jī)械鉸合現(xiàn)象;潤(rùn)濕吸附主要是范德華力的作用使兩相間進(jìn)行粘附;實(shí)際上往往這兩種作用同時(shí)存在。陽(yáng)極電解氧化法具有許多優(yōu)點(diǎn)，即氧化反應(yīng)速度快，處理時(shí)間短，容易與碳纖維生產(chǎn)線相匹配，氧化緩和，反應(yīng)均勻且易于控制，處理效果顯著。

 

　　

　　圖4. 處理前后對(duì)比SEM圖

 

　　4.化學(xué)腐蝕法和平板印刷術(shù)

 

　　化學(xué)腐蝕法是指將材料置于強(qiáng)酸或強(qiáng)堿性等溶液中，依靠溶液的腐蝕性在金屬表面加工出微納米結(jié)構(gòu)。Qian 等利用金屬中缺陷優(yōu)先腐蝕的性質(zhì) , 采用位錯(cuò)腐蝕劑對(duì)鋁、銅、鋅表面進(jìn)行化學(xué)腐蝕 , 當(dāng)晶面暴露在相應(yīng)的位錯(cuò)腐蝕劑中時(shí) ，在位錯(cuò)露頭處將形成凹坑 ，經(jīng)氟硅烷修飾后 , 制備出超疏水表面 , 接觸角大于150° ,滾動(dòng)角小于 10° 。李艷峰等采用鹽酸溶液對(duì)鋁合金進(jìn)行化學(xué)腐蝕 , 獲得了由長(zhǎng)方體狀凸臺(tái)和凹坑構(gòu)成的深淺相間的“迷宮型”微納米結(jié)構(gòu) , 再經(jīng)過(guò)氟硅烷修飾后獲得了具有超疏水性質(zhì)的表面 , 接觸角達(dá)到156°，接觸角滯后為 5 ° 。有研究者使用簡(jiǎn)易的激光刻蝕技術(shù)在拋光后的硅片上生成了分等級(jí)的結(jié)構(gòu)，這種階層結(jié)構(gòu)是由密布粗糙納米級(jí)突起的各向異性且交互排列的微槽組成的，經(jīng)過(guò)氟硅烷表面修飾后，得到接觸角接近180°的超疏水表面。也可以使用可以產(chǎn)生納米印痕的平板印刷術(shù)法和濕化學(xué)刻蝕法相結(jié)合的方法在硅的表面上制備了超疏水膜。

 

 

 

　　圖5. 處理前后對(duì)比SEM圖

 

　　5.模板法

 

　　Tieme 等采用硅氧烷橡膠和環(huán)氧樹脂兩種材料做模板 ,將荷葉的微觀形貌復(fù)制到鋁表面 , 再經(jīng)低表面能修飾后 , 獲得接觸角為 161° 的超疏水表面 。Li等用聚苯乙烯球制備大面積正六邊形密集排列的單分子層膠體晶體 , 并以此為模板 ,在其上滴醋酸鋅水溶液 ,經(jīng)干燥 、退火后制備出有序多孔陣列氧化鋅薄膜 ,其表面由尺寸小于 200nm 的凸?fàn)钗锝M成 ,呈現(xiàn)密集排列的花圈結(jié)構(gòu) 。該氧化鋅薄膜未經(jīng)氟硅烷修飾，接觸角就達(dá)到 153° , 經(jīng)氟硅烷修飾后 , 接觸角為 165 °，滾動(dòng)角小于 5 ° 。

 

 

 

 

　　圖6. 處理前后對(duì)比SEM圖

 

　　【參考文獻(xiàn)】

 

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